提到光刻機(jī)，想必首先想到的就是來(lái)自荷蘭的高端芯片光刻機(jī)，至于光刻機(jī)的工作原理，與沖洗照片十分類似。需要通過(guò)光刻機(jī)的紫外線，然后去除晶圓體表面的保護(hù)膜，然后將此前設(shè)計(jì)好的精密線路，再通過(guò)紫外線刻在晶圓體之上?？墒沁@件事卻屬于聽(tīng)起來(lái)容易辦起來(lái)難，因?yàn)楣饪虣C(jī)性能的不同，所以導(dǎo)致芯片的納米等級(jí)也不同。
目前全球光刻機(jī)制造的芯片，可以分為5至7納米、7至28納米、28至65納米、65至90納米等級(jí)別。而且隨著全球科技不斷發(fā)展，芯片對(duì)于各個(gè)國(guó)家有著十分重要的作用。因?yàn)闊o(wú)論是航天領(lǐng)域、民航客機(jī)，還是汽車、手機(jī)等領(lǐng)域，對(duì)于芯片的需求量一直比較大。那么為何全球擁有數(shù)十個(gè)發(fā)達(dá)國(guó)家，只有荷蘭能制造高端光刻機(jī)，連美國(guó)都只能“心甘情愿”充當(dāng)輔助和配角？說(shuō)到光刻機(jī)最初的發(fā)展，還追溯到上個(gè)世紀(jì)60至70年代左右。當(dāng)時(shí)美國(guó)研發(fā)的光刻機(jī)，可是全球頂尖存在。當(dāng)然這和當(dāng)時(shí)的光刻機(jī)工作原理比較簡(jiǎn)單，也有一定的關(guān)系。
那個(gè)時(shí)候的光刻機(jī)，就是通過(guò)光把電路圖掩膜，涂刷在光敏膠的晶圓體之上，當(dāng)時(shí)的晶圓體大小為一英寸左右。到了80年代之后，日本半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)在美國(guó)扶持下，也開始走向“巔峰”，甚至從最初需要美國(guó)幫助，直接成為超越后者，在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)出口量領(lǐng)先全球。到了1984年，荷蘭光刻廠成立之后，由于美日在半導(dǎo)體領(lǐng)域的地位無(wú)人能撼動(dòng)，所以當(dāng)時(shí)的阿斯麥公司不過(guò)是以接收一些小訂單為主。到了1997年，美國(guó)半導(dǎo)體巨頭英特爾與美國(guó)能源部組建EUV前沿技術(shù)組織，因此讓摩托羅拉、AMD脫穎而出。
隨后阿斯麥及時(shí)抓住機(jī)遇，成功在美國(guó)建廠?？墒菫榱说玫矫绹?guó)的承認(rèn)，阿斯麥研發(fā)的產(chǎn)品中必須有55%的原材料，是從美國(guó)供貨商手中拿貨。此后阿斯麥便在光刻機(jī)領(lǐng)域迅速崛起，并且隨著時(shí)間的沉淀，在高端光刻機(jī)領(lǐng)域已經(jīng)做到了無(wú)人可及。
這就導(dǎo)致如今阿斯麥研發(fā)的光刻機(jī)，重量達(dá)到180噸，售價(jià)更是高達(dá)1.2億美元左右。除此之外，即便購(gòu)買到阿斯麥研發(fā)的EUV光刻機(jī)，但是還需要該公司專業(yè)人員對(duì)設(shè)備進(jìn)行調(diào)試，時(shí)間長(zhǎng)達(dá)一年。當(dāng)然在阿斯麥研發(fā)的光刻機(jī)中，美國(guó)光源占據(jù)27%、荷蘭與英國(guó)占據(jù)32%、日本與德國(guó)也占據(jù)一定的比例。不難看出，美國(guó)在光刻機(jī)領(lǐng)域，早已無(wú)法與阿斯麥相提并論，因此只能選擇在幕后“打輔助”。這與美國(guó)制造業(yè)衰退，有著密切關(guān)聯(lián)。
（文/華強(qiáng)）
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